自清潔聲屏障：光催化涂層技術(shù)的降噪與環(huán)保原理
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自清潔聲屏障光催化涂層技術(shù)主要基于納 米級(jí)光催化材料在光照條件下產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性自 由基，能有 效分 解有 機(jī)污染物和殺滅微生物。該技術(shù)通過(guò)以下機(jī)制實(shí)現(xiàn)雙重功效：
降噪功能：特殊表面結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可改變聲波反射路徑，多 維降噪聲屏障降噪效果達(dá)13分貝以上
自清潔功能：光催化反應(yīng)分 解表面有 機(jī)物，保持涂層長(zhǎng)期清潔。文章來(lái)源聲屏障http://www.nbrtj.cn/。
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